ใช้เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) หรือแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโตเรซิสต์ ทำให้สามารถพัฒนาลายเส้นที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความเสถียรทางความร้อนสูงและประสิทธิภาพในการกำเนิดกรดทำให้เหมาะสำหรับการถ่ายภาพความละเอียดสูงและการไมโครแฟบรีเคชัน นอกจากนี้ยังใช้เป็นโฟโตอินิเทียเตอร์ชนิดแคทไอออนในกระบวนการแข็งตัวด้วยรังสีอัลตราไวโอเลต (UV curing) โดยเฉพาะในระบบเรซินที่ต้องการการแข็งตัวเร็วและลึก เช่น เคลือบผิว หมึกพิมพ์ และกาวที่ไวต่อแสง มีประสิทธิภาพสูงในการเริ่มต้นปฏิกิริยาพอลิเมอไรเซชันแบบแคทไอออนแม้ในสภาวะแสงน้อย และช่วยเพิ่มความทนทานต่อความชื้นและสารเคมี