ใช้เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator) ในสูตร photoresist ขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต จะปล่อยกรดซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในชั้นต้านทาน (resist) ทำให้สามารถพัฒนาลายเส้นที่แม่นยำได้ในกระบวนการ photolithography สิ่งนี้ทำให้มีคุณค่าต่อกระบวนการ microfabrication โดยเฉพาะในการผลิตคุณสมบัติความละเอียดสูงบนวงจรรวม นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในโพลิเมอร์พิเศษและวัสดุออปติคัลที่ต้องการการปล่อยกรดที่ควบคุมสำหรับการบ่มหรือการเชื่อมขวาง