สารเคมีนี้ใช้หลักly เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ฟิล์มบางของซิงค์ออกไซด์ (ZnO) และอนุภาคนาโน ซึ่งจำเป็นสำหรับการประยุกต์ใช้ขั้นสูงต่างๆ มันทำหน้าที่เป็นวัสดุหลักในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในการสร้างออกไซด์นำไฟฟ้าที่โปร่งใสซึ่งใช้ในเซลล์แสงอาทิตย์ เอลอีดี และเทคโนโลยีหน้าจอ นอกจากนี้ ยังใช้ในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) และ deposition ชั้นอะตอม (ALD) เพื่อสร้างชั้นเคลือบซิงค์ออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง โดยมีการควบคุมความหนาและความสม่ำเสมออย่างแม่นยำ ชั้นเคลือบเหล่านี้มีความสำคัญในการเพิ่มประสิทธิภาพและความทนทานของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และโฟโตอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ บทบาทของมันในฐานะตัวเร่งปฏิกิริยาและสาร стабилизатор ในสูตรโพลิเมอร์ยังเน้นย้ำถึงความหลากหลายในการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมและวิทยาศาสตร์วัสดุ