Tris(ethyl acetoacetato)aluminum(III) ถูกใช้อย่างแพร่หลายเป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตฟิล์มบางและสารเคลือบ ทำหน้าที่เป็นส่วนประกอบหลักในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) ซึ่งช่วยในการก่อตัวของชั้นอะลูมิเนียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์และความสม่ำเสมอสูง ชั้นเหล่านี้จำเป็นต่อการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ อุปกรณ์ทางแสง และสารเคลือบป้องกันสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรมต่างๆ

ในสาขาการเร่งปฏิกิริยา สารประกอบนี้ทำหน้าที่เป็นตัวเร่งหรือตัวเร่งร่วมในปฏิกิริยาอินทรีย์ รวมถึงกระบวนการพอลิเมอไรเซชันและการเชื่อมขวาง ความสามารถในการอำนวยความสะดวกปฏิกิริยาเหล่านี้ทำให้มีคุณค่าต่อการผลิตโพลิเมอร์ เรซิน และกาวที่มีคุณสมบัติปรับปรุงแล้ว

นอกจากนี้ ยังถูกนำมาใช้ในการปรุงสูตรสารเคลือบและสีพิเศษ ซึ่งช่วยปรับปรุงการยึดเกาะ ความทนทาน และความต้านทานต่อปัจจัยสิ่งแวดล้อม การใช้งานในแอปพลิเคชันเหล่านี้ช่วยรับประกันการเคลือบที่มีประสิทธิภาพสูงสำหรับวัสดุยานยนต์ อวกาศ และสถาปัตยกรรม

ในการวิจัยและพัฒนา Tris(ethyl acetoacetato)aluminum(III) ถูกนำมาใช้เนื่องจากความตอบสนองและความเสถียรในการสร้างวัสดุใหม่และศึกษาคุณสมบัติของพวกเขา ความหลากหลายทำให้เป็นสารประกอบที่สำคัญในทั้งบริบทอุตสาหกรรมและวิทยาศาสตร์