ใช้ในการผลิตโลหะฮัฟเนียมความบริสุทธิ์สูงผ่านการสลายตัวด้วยความร้อน โดยมีบทบาทสำคัญในกระบวนการแท่งคริสตัล (crystal bar process) นอกจากนี้ยังใช้ในเทคนิคการสะสมไอระเหยทางเคมี (CVD) พิเศษเพื่อสร้างฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของฮัฟเนียมสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง ฟิล์มเหล่านี้มีคุณค่าต่อไมโครอิเล็กทรอนิกส์เนื่องจากค่าคงที่ไดอิเล็กทริกสูง ทำให้เหมาะสำหรับใช้เป็นฉนวนเกตในทรานซิสเตอร์ นอกจากนี้ ฮัฟเนียมไอโอไดด์ยังทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในงานวิจัยสำหรับสังเคราะห์สารประกอบและนาโนวัสดุที่ขึ้นอยู่กับฮัฟเนียม ซึ่งมีศักยภาพในการประยุกต์ใช้ด้านการเร่งปฏิกิริยา (catalysis) และวัสดุทนไฟ (refractory materials)