HAFNIUM N-BUTOXIDE
60% in n-butoxide, Hf: 22.6 wt%
Reagent
รหัส: #192128
หมายเลข CAS
22411-22-9
science Other reagents with same CAS 22411-22-9
blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี
scatter_plot
ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก
470.94 g/mol
สูตร
C₁₆H₃₆HfO₄
badge
หมายเลขทะเบียน
MDL Number
MFCD00236545
thermostat
คุณสมบัติทางกายภาพ
Boiling Point
280-5°C/0.01mmHg
inventory_2
การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ
Room temperature, dry, sealed, inflatable
description รายละเอียดสินค้า
ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ขั้นสูงที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง โดยเฉพาะในการเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความต้านทานต่อความร้อนและการกัดกร่อน นิยมนำมาใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับการสร้างไดอิเล็กทริกฟิล์มบางในชิปเซมิคอนดักเตอร์ เพราะมีคุณสมบัติในการควบคุมการนำไฟฟ้าได้ดี นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของฮาฟเนียมที่ใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนและการเคลือบผิวแบบโซล-เจล
shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
0.00
รวมทั้งสิ้น
0.00
THB
