HAFNIUM N-BUTOXIDE

60% in n-butoxide, Hf: 22.6 wt%

Reagent รหัส: #192128
fingerprint
หมายเลข CAS 22411-22-9

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 470.94 g/mol
สูตร C₁₆H₃₆HfO₄
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00236545
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Boiling Point 280-5°C/0.01mmHg
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature, dry, sealed, inflatable

description รายละเอียดสินค้า

ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ขั้นสูงที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง โดยเฉพาะในการเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความต้านทานต่อความร้อนและการกัดกร่อน นิยมนำมาใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับการสร้างไดอิเล็กทริกฟิล์มบางในชิปเซมิคอนดักเตอร์ เพราะมีคุณสมบัติในการควบคุมการนำไฟฟ้าได้ดี นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของฮาฟเนียมที่ใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนและการเคลือบผิวแบบโซล-เจล

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 25g
10-20 days ฿30,900.00
inventory 5g
10-20 days ฿9,420.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
ตะกร้า สั่งซื้อ