ใช้เป็นสารตั้งต้นสำคัญในการสังเคราะห์โพลิเมอร์ประสิทธิภาพสูง โดยเฉพาะโพลีไอไมด์และโพลีคาร์บอเนต เนื่องจากช่วยเพิ่มความเสถียรทางความร้อนและความโปร่งใส โครงสร้างฟลูออรีนช่วยปรับปรุงความต้านทานต่อความร้อนและการเกิดออกซิเดชัน ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรมอวกาศ อิเล็กทรอนิกส์ และวัสดุออปติคัล นอกจากนี้ยังใช้ในการผลิตเรซินพิเศษสำหรับสารเคลือบและฟิล์มที่ต้องการค่าคงที่ไดอิเล็กทริกต่ำและความต้านทานต่อสารเคมีสูง