ใช้เป็นสารตั้งต้นในงานสังเคราะห์ออร์กาโนเมทัลลิก โดยเฉพาะในการเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีโคบอลต์ ใช้ในกระบวนการ deposition ไอระเหยสำหรับการสร้างฟิล์มบาง โดยเฉพาะในงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์และวัสดุอิเล็กทรอนิกส์ สารประกอบนี้ทำหน้าที่เป็นแหล่งของสปีชีส์โคบอลต์ที่ทำปฏิกิริยาได้ในงานสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง รวมถึงการเคลือบแม่เหล็กและตัวนำไฟฟ้า ความผันผวนสูงและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับใช้ในเทคนิค chemical vapor deposition (CVD) และ atomic layer deposition (ALD) นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยสำหรับพัฒนาสารประกอบโคบอลต์ใหม่ที่มีคุณสมบัติการทำปฏิกิริยาและสมบัติตัวเร่งที่ปรับแต่งได้ รวมถึงการศึกษาโครงสร้างและสมบัติของสารประกอบโคบอลต์ที่มีลิแกนด์แอมไลด์ขนาดใหญ่ เหมาะสำหรับการพัฒนาตัวเร่งปฏิกิริยาในปฏิกิริยาการเติมไฮโดรเจนหรือการสร้างพันธะคาร์บอน-คาร์บอน และใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบโคบอลต์เชิงซ้อนที่มีศักยภาพในด้านแม่เหล็กและออปโตอิเล็กทรอนิกส์