ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิคการสะสมชั้นบางแบบเคมีจากไอระเหย (CVD) เพื่อสร้างชั้นฟิล์มบางของโครเมียมหรือออกไซด์ของโครเมียมบนพื้นผิวต่าง ๆ ฟิล์มที่ได้มีคุณสมบัติทนต่อการกัดกร่อนและมีความแข็งสูง เหมาะสำหรับใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และชิ้นส่วนที่ต้องการความทนทานต่อสภาวะแวดล้อมรุนแรง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนเพื่อควบคุมคุณสมบัติแม่เหล็กและไฟฟ้าของวัสดุที่มีโครเมียมเป็นองค์ประกอบ