ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางของออกไซด์แมกนีเซียม ซึ่งจำเป็นสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และออปโตอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูงและการเคลือบผิว เนื่องจากความสามารถในการก่อตัวสารประกอบแมกนีเซียมที่มีความบริสุทธิ์สูง นอกจากนี้ยังทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาหรือตัวร่วมเร่งในปฏิกิริยาอินทรีย์ เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพในการแปลงสารเคมีบางชนิด ความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสมสำหรับการใช้งานในอุณหภูมิสูงในวิทยาศาสตร์วัสดุ