ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ฟิล์มบางและวัสดุเคลือบผิว โดยเฉพาะในกระบวนการ deposition ด้วยไอสารเคมี (CVD) และ deposition ชั้นอะตอม (ALD) ใช้ในการผลิตวัสดุขั้นสูง เช่น เซรามิกประสิทธิภาพสูงและวัสดุเคลือบทางแสง เนื่องจากสามารถสร้างชั้นออกไซด์แคลเซียมที่สม่ำเสมอและบริสุทธิ์สูง นอกจากนี้ ยังทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาหรือส่วนประกอบของตัวเร่งในปฏิกิริยาอินทรีย์ รวมถึงกระบวนการพอลิเมอริเซชันและการทำปฏิกิริยาข้าม ในงานวิจัย ใช้ในการศึกษากรอบโลหะ-อินทรีย์ (MOFs) และสารประกอบการประสานอื่นๆ ความเสถียรทางความร้อนและความสามารถในการละลายในตัวทำละลายอินทรีย์ทำให้เป็นสารที่หลากหลายทั้งในอุตสาหกรรมและห้องปฏิบัติการ