Hafnium(IV) oxychloride hydrate

99.99% trace metals basis (purity excludes zirconium)

Reagent รหัส: #196075
fingerprint
หมายเลข CAS 15461-28-6

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 283.41 g/mol
สูตร CHCl₂HfO
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00150415
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature

description รายละเอียดสินค้า

ใช้ในอุตสาหกรรมเซรามิกส์ขั้นสูงเพื่อปรับปรุงความทนทานต่ออุณหภูมิสูงและความแข็งแรงของวัสดุ เหมาะสำหรับชิ้นส่วนที่ต้องทำงานในสภาวะรุนแรง เช่น เครื่องยนต์เจ็ตหรือเตาเผาอุตสาหกรรม นิยมใช้เป็นตัวตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของฮาฟเนียมที่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ที่ต้องการวัสดุไดอิเล็กทริกคุณภาพสูง ยังมีการนำไปใช้ในการวิจัยวัสดุนาโนเพื่อพัฒนาตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีประสิทธิภาพสูง โดยเฉพาะในปฏิกิริยาการสังเคราะห์อินทรีย์ที่ต้องการเลือกลักษณะเฉพาะของผลิตภัณฑ์ นอกจากนี้ยังมีศักยภาพในการใช้ในเทคโนโลยีการป้องกันรังสี เนื่องจากฮาฟเนียมมีความสามารถในการดูดซับรังสีได้ดี ทำให้สารนี้อาจถูกนำมาใช้ในระบบป้องกันรังสีในอนาคต

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 100mg
10-20 days ฿5,250.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB