Hafnium(IV) oxychloride hydrate
99.99% trace metals basis (purity excludes zirconium)
Reagent
รหัส: #196075
หมายเลข CAS
15461-28-6
blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี
scatter_plot
ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก
283.41 g/mol
สูตร
CHCl₂HfO
badge
หมายเลขทะเบียน
MDL Number
MFCD00150415
inventory_2
การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ
Room temperature
description รายละเอียดสินค้า
ใช้ในอุตสาหกรรมเซรามิกส์ขั้นสูงเพื่อปรับปรุงความทนทานต่ออุณหภูมิสูงและความแข็งแรงของวัสดุ เหมาะสำหรับชิ้นส่วนที่ต้องทำงานในสภาวะรุนแรง เช่น เครื่องยนต์เจ็ตหรือเตาเผาอุตสาหกรรม
นิยมใช้เป็นตัวตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของฮาฟเนียมที่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ที่ต้องการวัสดุไดอิเล็กทริกคุณภาพสูง
ยังมีการนำไปใช้ในการวิจัยวัสดุนาโนเพื่อพัฒนาตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีประสิทธิภาพสูง โดยเฉพาะในปฏิกิริยาการสังเคราะห์อินทรีย์ที่ต้องการเลือกลักษณะเฉพาะของผลิตภัณฑ์
นอกจากนี้ยังมีศักยภาพในการใช้ในเทคโนโลยีการป้องกันรังสี เนื่องจากฮาฟเนียมมีความสามารถในการดูดซับรังสีได้ดี ทำให้สารนี้อาจถูกนำมาใช้ในระบบป้องกันรังสีในอนาคต
shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
0.00
รวมทั้งสิ้น
0.00
THB