Hafnium(IV) oxide

99.9% metals basis, D50=200nm

Reagent รหัส: #191737
label
นามแฝง Hafnium oxide (IV); Hafnium dioxide
fingerprint
หมายเลข CAS 12055-23-1

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 210.49 g/mol
สูตร HfO₂
badge หมายเลขทะเบียน
EC Number 235-013-2
MDL Number MFCD00003565
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point 2810 °C
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
Density 9.68 g/mL at 25 °C(lit.)
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature

description รายละเอียดสินค้า

ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นวัสดุฉนวนชนิดหนาที่มีค่าไดอิเล็กทริกสูง (high-k dielectric) ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพของทรานซิสเตอร์ขนาดเล็ก โดยเฉพาะในชิปคอมพิวเตอร์รุ่นใหม่ที่ต้องการการควบคุมกระแสไฟฟ้าอย่างแม่นยำ ลดการรั่วของกระแสไฟฟ้าเมื่ออุปกรณ์ทำงานที่ความเร็วสูง นิยมใช้ในกระบวนการผลิตวงจรอิเล็กทรอนิกส์ระดับนาโน เช่น โปรเซสเซอร์จากบริษัทใหญ่ๆ ที่ต้องการความจุสูงในพื้นที่เล็ก นอกจากนี้ยังใช้เป็นวัสดุเคลือบผิวในอุปกรณ์ที่ต้องทนต่ออุณหภูมิสูงและรังสี เช่น ในอุตสาหกรรมพลังงานนิวเคลียร์ หรือเลเซอร์กำลังสูง เนื่องจากมีความเสถียรภาพทางเคมีและทนต่อการกัดกร่อนได้ดี ยังมีการวิจัยในการใช้เป็นวัสดุในเซลล์แสงอาทิตย์ชนิดใหม่ และในระบบจัดเก็บพลังงานเนื่องจากคุณสมบัติในการนำไฟฟ้าและความสามารถในการเก็บประจุ

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 25g
10-20 days ฿10,240.00
inventory 100g
10-20 days ฿30,440.00
inventory 5g
10-20 days ฿2,990.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB