Tetramethylammonium hydroxide solution

10% in MeOH

Reagent รหัส: #78407
label
นามแฝง Tetramethylammonium hydroxide 25% solution; developer TMAH
fingerprint
หมายเลข CAS 75-59-2

science Other reagents with same CAS 75-59-2

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 91.15 g/mol
สูตร C₄H₁₃NO
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00008280
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point °C
Boiling Point 110 °C
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ room temperature

description รายละเอียดสินค้า

ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เป็นสารล้างฟิล์ม (developer) สำหรับ photoresist ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และแผงวงจรพิมพ์ (PCB) โดยสามารถลบส่วนที่ถูกแสงของ photoresist ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยให้สร้างลายเส้นที่แม่นยำ นอกจากนี้ ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ โดยเฉพาะในการผลิตโพลิเมอร์ซิลิโคนและสารเคมีพิเศษอื่นๆ ในเคมีวิเคราะห์ ใช้เป็นตัวเรแทนต์สำหรับการไทเทรชันและเป็นตัวแทน ion-pairing ในโครมาโทกราฟีเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการแยก มีคุณสมบัติด่างแรง จึงเหมาะสำหรับการทำความสะอาดและ etching พื้นผิวต่างๆ รวมถึงในกระบวนการผลิต LCD และ LED สำหรับการทำความสะอาดและปรับสภาพพื้นผิวกระจก

format_list_bulleted คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์

พารามิเตอร์การทดสอบ ข้อมูลจำเพาะ
Concentration (NT) 8-12
Water (KF) 0-15
Appearance Colorless liquid

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 2.5L
10-20 days ฿16,380.00
inventory 25ml
10-20 days ฿370.00
inventory 100ml
10-20 days ฿880.00
inventory 500ml
10-20 days ฿3,860.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
Tetramethylammonium hydroxide solution
No image available

ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เป็นสารล้างฟิล์ม (developer) สำหรับ photoresist ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และแผงวงจรพิมพ์ (PCB) โดยสามารถลบส่วนที่ถูกแสงของ photoresist ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยให้สร้างลายเส้นที่แม่นยำ นอกจากนี้ ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ โดยเฉพาะในการผลิตโพลิเมอร์ซิลิโคนและสารเคมีพิเศษอื่นๆ ในเคมีวิเคราะห์ ใช้เป็นตัวเรแทนต์สำหรับการไทเทรชันและเป็นตัวแทน ion-pairing ในโครมาโทกราฟีเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการแยก มีคุณสมบัติด่างแรง จึงเหมาะสำหรับการทำความสะอาดและ

ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เป็นสารล้างฟิล์ม (developer) สำหรับ photoresist ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และแผงวงจรพิมพ์ (PCB) โดยสามารถลบส่วนที่ถูกแสงของ photoresist ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยให้สร้างลายเส้นที่แม่นยำ นอกจากนี้ ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ โดยเฉพาะในการผลิตโพลิเมอร์ซิลิโคนและสารเคมีพิเศษอื่นๆ ในเคมีวิเคราะห์ ใช้เป็นตัวเรแทนต์สำหรับการไทเทรชันและเป็นตัวแทน ion-pairing ในโครมาโทกราฟีเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการแยก มีคุณสมบัติด่างแรง จึงเหมาะสำหรับการทำความสะอาดและ etching พื้นผิวต่างๆ รวมถึงในกระบวนการผลิต LCD และ LED สำหรับการทำความสะอาดและปรับสภาพพื้นผิวกระจก

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...