Tetramethylammonium hydroxide solution
10% in MeOH
science Other reagents with same CAS 75-59-2
blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี
description รายละเอียดสินค้า
ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เป็นสารล้างฟิล์ม (developer) สำหรับ photoresist ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และแผงวงจรพิมพ์ (PCB) โดยสามารถลบส่วนที่ถูกแสงของ photoresist ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยให้สร้างลายเส้นที่แม่นยำ นอกจากนี้ ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ โดยเฉพาะในการผลิตโพลิเมอร์ซิลิโคนและสารเคมีพิเศษอื่นๆ ในเคมีวิเคราะห์ ใช้เป็นตัวเรแทนต์สำหรับการไทเทรชันและเป็นตัวแทน ion-pairing ในโครมาโทกราฟีเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการแยก มีคุณสมบัติด่างแรง จึงเหมาะสำหรับการทำความสะอาดและ etching พื้นผิวต่างๆ รวมถึงในกระบวนการผลิต LCD และ LED สำหรับการทำความสะอาดและปรับสภาพพื้นผิวกระจก
format_list_bulleted คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์
| พารามิเตอร์การทดสอบ | ข้อมูลจำเพาะ |
|---|---|
| Concentration (NT) | 8-12 |
| Water (KF) | 0-15 |
| Appearance | Colorless liquid |
shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า