ใช้เป็นหลักในฐานะโมโนเมอร์แบบปฏิกิริยาในการสังเคราะห์โพลิเมอร์และเรซินเฉพาะทาง โครงสร้างไตรไซคลิกที่แข็งตัวของมันช่วยให้มีความเสถียรทางความร้อนสูงและความแข็งแรงทางกลในวัสดุที่เกิดขึ้น ใช้กันทั่วไปในสารเคลือบ กาว และตัวห่อหุ้มอิเล็กทรอนิกส์ที่ต้องการความทนทานและความต้านทานความร้อน นอกจากนี้ยังใช้ในระบบที่สามารถบ่มด้วยแสงเนื่องจากความสามารถในการเกิดโพลิเมอร์ไรเซชันอย่างรวดเร็วภายใต้แสง UV ทำให้เหมาะสำหรับหมึก วัสดุทันตกรรม และเรซินการพิมพ์ 3 มิติ ไอโซเมอร์ (E) ให้ความสม่ำเสมอของโครงสร้างที่ดีกว่า ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการเชื่อมขวางและประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์สุดท้าย