Triisopropylsilyl methacrylate เป็นสารโมโนเมอร์หลักที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในสาขาเคมีโพลิเมอร์ โดยเฉพาะในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง ใช้ในการผลิตโพลิเมอร์พิเศษที่มีคุณสมบัติเฉพาะ เช่น ความทนทานต่อความร้อนและสารเคมีที่เพิ่มขึ้น สารนี้มักใช้ในการสร้างสารเคลือบป้องกันและฟิล์ม โดยซึ่งกลุ่มซิลิลช่วยเพิ่มการยึดเกาะและความทนทานบนพื้นผิวต่างๆ นอกจากนี้ ยังใช้ในการพัฒนาฟอโต้เรซิสต์สำหรับอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์และการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เพื่อการสร้างลายละเอียดที่แม่นยำในกระบวนการลิโธกราฟี โครงสร้างที่ไม่เหมือนใครยังทำให้มีคุณค่าในการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยทำหน้าที่เป็นกลุ่มปกป้องสำหรับหมู่ฮีดรอกซิลในโครงสร้างโมเลกุลที่ซับซ้อน