ใช้ในอุตสาหกรรมเคลือบผิวแบบบางพิเศษ (thin film deposition) โดยเฉพาะในกระบวนการที่เรียกว่า Chemical Vapor Deposition (CVD) เพื่อสร้างชั้นฟิล์มทังสเตนบริสุทธิ์บนชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ เช่น ชิปเซมิคอนดักเตอร์ หรือวงจรรวม ช่วยเพิ่มการนำไฟฟ้าและทนต่ออุณหภูมิสูง นิยมใช้ในงานวิจัยและห้องปฏิบัติการเพื่อสังเคราะห์สารประกอบของทังสเตนอื่น ๆ เพราะมีความเสถียรและปล่อยลิแกนด์คาร์บอนิลได้ง่ายเมื่อถูกกระตุ้นด้วยแสงหรือความร้อน ยังมีการประยุกต์ใช้ในเทคโนโลยีนาโน เพื่อสร้างอนุภาคนาโนของทังสเตนหรือคาร์ไบด์ทังสเตน ซึ่งมีคุณสมบัติแข็งแรงสูง เหมาะสำหรับวัสดุทนการกัดกร่อนหรือตัวเร่งปฏิกิริยาในกระบวนการเคมีเฉพาะทาง