โพลี(อัลฟา-เมทิลสไตรีน) เป็นโพลิเมอร์ชนิดพิเศษที่มีคุณสมบัติการย่อยสลายด้วยความร้อนอย่างสะอาด โดยสลายตัวกลับเป็นโมโนเมอร์ที่อุณหภูมิค่อนข้างต่ำ (ประมาณ 200-250°C) โดยไม่ทิ้งคราบตกค้าง ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ โดยเฉพาะในกระบวนการลิโธกราฟีขนาดเล็กสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เป็นส่วนประกอบสำคัญในสูตรฟิล์มต้านทานแสง (photoresist) โดยเฉพาะระบบฟิล์มสองชั้น ช่วยให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำและกระบวนการยกออก (lift-off) ในกระบวนการผลิตไมโครชิปได้ คุณสมบัติความบริสุทธิ์สูงและความเสถียรทำให้เหมาะสำหรับการถ่ายภาพความละเอียดสูงและการกำจัดที่สะอาด เช่น ในการผลิตวงจรรวมและอุปกรณ์ฟิล์มบาง นอกจากนี้ยังใช้เป็นวัสดุเสียสละในสูตรเคลือบและกาวชนิดพิเศษที่ต้องการการนำกลับใช้ใหม่ด้วยความร้อน